Тайвань стал обладателем литографа для создания микросхем с помощью электронных лучей

Нет нужды в фотошаблонах

Американская компания Multibeam получила свой первый заказ на Тайване. Национальный университет Цинхуа (NTHU) внедрит платформу многолучевой электронно-лучевой литографии MBX, которая будет использоваться для исследований и разработки новых технологий в области микроэлектроники. Поставка оборудования намечена на 2027 год.

Система будет установлена в Колледже полупроводниковых исследований NTHU. Она планируется к использованию не только в научных проектах, но и в совместных разработках с крупнейшими производителями чипов на Тайване.

Основное преимущество MBX заключается в отказе от традиционных фотошаблонов. Вместо этого установка создает рисунок микросхемы непосредственно на кремниевой пластине с помощью нескольких электронных лучей одновременно. Это обеспечивает быстрое изготовление новых прототипов сразу после завершения проектирования, сокращая время разработки и снижая ее стоимость.

По словам разработчиков, данная технология сочетает высокую точность и производительность. Она идеально подходит для создания современных корпусов микросхем, фотонных компонентов, квантовых устройств и специализированных ускорителей искусственного интеллекта.

Для самой компании Multibeam этот контракт имеет особое значение. Тайвань считается мировым центром производства передовых полупроводников, поэтому первая установка MBX в этом регионе может стать важным этапом в сотрудничестве с ведущими производителями чипов и открыть для компании доступ к одному из самых перспективных рынков в отрасли.