Добавь сайт в закладки! Инструкция по ссылке.
Для силовой электроники нового поколения
Процессоры019:00
Китайская компания Hangzhou Garen Semiconductor объявила о запуске первой в мире линии серийного производства гомоэпитаксиальных пластин из оксида галлия диаметром 6 и 8 дюймов. Данное событие компания рассматривает как значимый шаг к массовому внедрению силовой электроники нового поколения.
Одновременно производитель сообщил о начале поставок 6-дюймовых пластин ведущим разработчикам чипов. По заявлениям Garen, производство уже достигло стабильного серийного уровня, и с рядом клиентов подписаны долгосрочные контракты.
Оксид галлия считается одним из самых многообещающих материалов для силовых полупроводников. Он позволяет создавать компоненты, которые могут функционировать при более высоких напряжениях и температурах по сравнению с кремнием. Такие решения могут применяться в электромобилях, высоковольтных сетях, системах хранения энергии, солнечной энергетике и телекоммуникационном оборудовании.
В настоящий момент основным ограничением в отрасли остается размер пластин: большинство изделий из оксида галлия производятся на подложках 2–4 дюйма, что препятствует масштабированию производства. Переход на форматы 6 и 8 дюймов должен значительно увеличить выход качественных чипов и снизить их себестоимость.
По информации компании, ей удалось разработать уникальную технологию выращивания монокристаллов и оптимизировать процесс эпитаксии. Это, как заявлено, позволило повысить производительность, уменьшить расход иридия и сократить стоимость подложек более чем на 80%. Также сообщается, что 8-дюймовая пластина производит примерно в четыре раза больше микросхем по сравнению с 4-дюймовой.
DexterИсточники:Interesting EngineeringПроцессоры019:00
ИсточникПоделись видео: