В России разработают промышленный электронный микроскоп для чипов, заменяющий Hitachi

На разработку выделено более 2,37 млрд рублей

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) займется созданием первого в России промышленного сканирующего электронного микроскопа класса CD-SEM, который будет использоваться для контроля производства микросхем. Как сообщает CNews, Минпромторг уже подписал контракт с центром на сумму 2,37 млрд рублей. Работы будут проводиться в рамках опытно-конструкторской разработки «Инспектор» и должны быть завершены к 30 июня 2030 года.

Будущий CD-SEM будет предназначен для неразрушающего контроля полупроводниковых пластин с диаметром 100, 150 и 200 мм. Первоначальный опытный образец будет адаптирован для работы с 200-миллиметровыми пластинами — такой формат в настоящее время широко применяется на предприятиях, занимающихся производством микросхем согласно устоявшимся технологическим стандартам.

Основная цель установки — высокоточное измерение критически важных параметров чипов. Микроскоп будет способен контролировать ширину проводников, размеры контактных отверстий, расстояние между элементами схемы и шероховатость краев линий. Эти характеристики напрямую влияют на качество, стабильность и выход годной продукции при производстве микросхем.

Проект направлен на замену японских электронных микроскопов Hitachi CD-SEM S-9380 и CG4000, поставки которых в Россию были прекращены после введения санкций. По данным CNews, в настоящее время отечественных промышленных аналогов такого оборудования не существует.

В соответствии с техническим заданием, почти все ключевые узлы нового комплекса — электронная пушка, электронно-оптическая колонна, рабочая камера, вакуумная система, механизм загрузки пластин, центральный контроллер и ПО — должны быть разработаны в России. Использование зарубежных компонентов допускается только в исключительных случаях и лишь после согласования с заказчиком. Согласно условиям контракта, средняя наработка на отказ должна составлять не менее 1000 часов, а расчетный срок службы оборудования — не менее десяти лет.

У ЗНТЦ уже есть опыт создания подобного оборудования. Ранее центр представил отечественный литограф с разрешением 350 нм, а также разработал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. В настоящее время два опытных образца этой системы проходят испытания.