Intel вырывается вперёд: чипы нового поколения уже сходят с конвейера

Добавь сайт в закладки нажми CTRL+D

+1
0
+1
0
+1
0
+1
1
+1
0
+1
0
+1
0

Intel Foundry первой в мире запустила массовое производство и поставки логических чипов, созданных с помощью литографии в жёстком ультрафиолете с высокой числовой апертурой (High NA EUV) от компании ASML.

Intel вырывается вперёд: чипы нового поколения уже сходят с конвейера

Индустрия сделала шаг к коммерческому внедрению микросхем нового поколения. Речь о партии процессоров Intel Core Ultra Series 3 (Panther Lake).

Чипсеты базируются на техпроцессе Intel 18A. Как отмечают в компании, отдельные слои этих чипов прошли двойную сертификацию для платформы ASML High NA EUV на заводе в Орегоне.

Продукцию уже отгружают клиентам, а процент выхода годных кристаллов сопоставим с показателями привычной платформы NXE. Теперь технология High NA EUV окончательно вышла из лабораторий — от ранних тестов к серийному конвейеру.

Производственный рубеж достигнут

-2

В ASML подчёркивают, что запуск новой технологии — результат десятилетий партнёрства с Intel.

Пока инновационное оборудование обрабатывает только выборочные слои чипа. Это даёт инженерам нужные производственные данные. Они смогут донастроить системы, увеличить время их безотказной работы и обкатать процессы перед масштабным внедрением в будущих архитектурах.

Установки High NA EUV — это следующая ступень эволюции литографии. Они дают высочайшее разрешение и филигранный контроль над формированием мельчайших элементов микросхемы. В перспективе это позволит собирать ещё более плотные и сложные чипы — фундамент для грядущих достижений в вычислениях и искусственном интеллекте.

Ещё в 2024 году американская корпорация Intel первой в отрасли установила коммерческую систему High NA EUV в своём исследовательском центре в Хиллсборо (штат Орегон).

-3

Чуть позже Intel первой смонтировала и успешно протестировала систему второго поколения — ASML TWINSCAN EXE:5200B. Её главные козыри: возросшая пропускная способность, высочайшая точность совмещения слоёв и модернизированный источник света.

Процессоры Panther Lake выпускают по нормам Intel 18A, а передовую технологию High NA EUV применяют для отрисовки лишь отдельных слоёв. В Intel объясняют такую осторожность прагматикой: так компания накапливает ценный опыт, не жертвуя объёмами выпуска на проверенных платформах.

Обе компании не скрывают: знания, полученные во время текущего производственного цикла, пойдут на тонкую калибровку оборудования и повышение надёжности. Отработанные процессы станут надёжной базой для массовой интеграции технологии в следующих поколениях чипов.

-4

Масштабирование будущих техпроцессов

Руководство Intel называет достигнутый результат важнейшим этапом.

-5

Оборудование High NA EUV удалось встроить в коммерческий конвейер, сохранив при этом гибкость для освоения будущих технологий.

По расчётам Intel, двойная сертификация High NA EUV на избранных слоях техпроцесса Intel 18A позволяет без перебоев поставлять готовую продукцию и одновременно изучать потенциал новинки.

Этот баланс критически важен для роста производительности, увеличения плотности транзисторов и производственной манёвренности на будущих технологических узлах.

Запустив конвейер процессоров Panther Lake с применением High NA EUV, корпорация Intel стала первой в мире компанией, которая отгружает коммерческие чипы на базе этой новейшей технологии.

-6

Литография нового поколения успешно преодолела путь от чертежей до реального крупномасштабного производства.

+1
0
+1
0
+1
0
+1
1
+1
0
+1
0
+1
0

Поделись видео:
Источник
Подоляка