Intel запускает массовое производство процессоров с революционной High-NA EUV-литографией

ASML стоимостью около $400 млн уже используется при производстве процессоров Panther Lake

Intel впервые начала применять литографию, использующую экстремальный ультрафиолет High-NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) в серийном производстве коммерческих процессоров. Новая методология уже задействована в создании отдельных слоёв чипов Panther Lake — процессоров Intel Core Ultra Series 3. Ранее High-NA EUV использовалась исключительно для исследовательских целей и тестовых пластин.

Основой этой технологии являются новые литографические установки ASML EXE с числовой апертурой 0,55 вместо 0,33, которые присутствуют в современных системах NXE. Увеличенная числовая апертура даёт возможность формировать более мелкие элементы микросхем: согласно данным ASML, разрешение возросло с 13 до 8 нм. При этом речь идёт о возможностях оптической системы, а не о маркетинговом обозначении техпроцесса.

Полностью на High-NA процессоры пока не производятся. Intel квалифицировала два метода изготовления отдельных слоёв Panther Lake — на традиционных NXE и новых EXE. Такой подход позволяет при необходимости переключать производство между различными поколениями оборудования и не зависеть исключительно от новых литографических систем.

Согласно информации Reuters, одна установка High-NA EUV стоит приблизительно $400 млн — почти в два раза дороже стандартной EUV-машины. Кроме приобретения оборудования, производителям необходимо разрабатывать новые фоторезисты, фотошаблоны, методы измерения и производственные процессы, поэтому переход требует не только значительных инвестиций, но и серьёзной адаптации всей производственной технологии.

Главное преимущество High-NA заключается в том, что часть сложных структур можно формировать за меньшее количество этапов экспонирования. Это сокращает время изготовления пластин, расход материалов, вероятность ошибок совмещения слоёв и возникновения дефектов, а также потенциально снижает себестоимость производства. Насколько эти преимущества смогут нивелировать стоимость нового оборудования, будет зависеть от конструкции конкретных чипов и объёмов их производства.

Для Intel внедрение High-NA имеет и стратегическое значение. Компания планирует использовать опыт массового производства Panther Lake для развития контрактного подразделения Intel Foundry, которое конкурирует с TSMC и Samsung. Первые серийные процессоры с использованием новой литографии должны продемонстрировать, насколько технология готова к широкому промышленному использованию.