В России создан литограф, который в 3000 раз ускоряет производство микросхем

Первый опытный образец может появиться к 2030 году

Российские ученые завершили этап научно-исследовательских работ по созданию отечественного многолучевого электронного литографа — установки, которая в будущем сможет использоваться для производства микросхем с технологическими параметрами вплоть до нескольких нанометров. Об этом сообщает издание «Известия».

На данный момент специалисты завершили исследования и подготовили проект будущей установки. Следующим шагом станут опытно-конструкторские работы, и, по прогнозам разработчиков, первый опытный образец может быть создан приблизительно через три года.

Основное отличие новой системы от традиционных электронных литографов заключается в принципе функционирования. В то время как существующие установки применяют один электронный луч, российская разработка основывается на технологии мультикатода, создающего сразу множество независимых электронных лучей. Это должно значительно ускорить процесс экспонирования кремниевых пластин.

По расчетам разработчиков, стандартному однолучевому электронному литографу требуется от полутора до двух недель для обработки одной пластины. Новый многолучевой комплекс сможет выполнить ту же задачу всего за 5–7 минут, что потенциально увеличит производительность примерно в 3000 раз.

Главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов сообщил, что команде удалось создать массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра. По его словам, это соответствует одному из лучших мировых показателей.

Еще одним преимуществом новой технологии разработчики указывают на более простую конструкцию. Зарубежные многолучевые литографы обычно используют сложные системы расщепления одного электронного луча с большим количеством зеркал и оптических компонентов. Российская установка формирует множество независимых источников электронов на общей подложке, что, как ожидается, позволит снизить стоимость оборудования, уменьшить потребление энергии и упростить требования к инженерной инфраструктуре.

По словам создателей, новый литограф сможет применяться для производства микросхем с различными технологическими параметрами — от 350 нм до нескольких нанометров. При этом они подчеркивают, что предельное разрешение современных электронных литографов во многом зависит не только от самой установки, но и от характеристик используемых фоторезистов.