Россия представила новый литограф для производства 150-нанометровых чипов

И при этом не нужны маски

В России создана установка для электронно-лучевой литографии с проектными характеристиками 150 нм, разработанная Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ). Два опытных образца уже проходят всесторонние испытания, которые продлятся приблизительно четыре месяца.

Установка предназначена для литографии без масок — она предоставляет возможность прямого формирования рисунка микросхем на кремниевых и других подложках, а также производства фотошаблонов без применения масок. Данный метод особенно полезен при разработке прототипов, проведении НИОКР и выпуске ограниченных партий специализированных микросхем, поскольку он исключает необходимость в изготовлении дорогостоящих фотошаблонов для каждого проекта.

Электронно-лучевая литография значительно медленнее фотолитографии и не подходит для серийного производства, однако она является важным инструментом для научных исследований, прототипирования и создания специализированной электроники, включая компоненты для космической отрасли.

Ранее ЗНТЦ также разработал отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм. В дополнение, центр работает над оборудованием с характеристиками 130 нм.

Ранее сообщалось, что разработчик первой советской атомной бомбы получил почти миллиард рублей

.