В России появится свой передовой литограф для производства 10нм чипов — но только в 2037 году

Дорожная карта включает в себя три основных этапа:

— Первый этап (2026–2028 годы): Создание литографа для 40-нанометрового техпроцесса со скоростью более пяти пластин в час;
— Второй этап (2029–2032 годы): Разработка сканера, позволяющего выпускать CPU и SoC по техпроцессу 14 нм со скоростью более 50 пластин в час;
— Третий этап (2033–2036 годы): Создание системы для производства чипов с разрешением менее 10 нм и скоростью более 100 пластин в час.